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此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短，对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学试剂很少，对控制成本及环境保护有利。

随着集成电路制程工艺节点越来越---，对实际制造的几个环节也提出了新要求，清洗环节的重要性日益---。

清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小，半导体对杂质含量越来越敏感，而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响，通过式喷淋清洗机定制，实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率，通过式喷淋清洗机价格，还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗，清洗步骤约占整体步骤的33%。

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旋转喷淋清洗机简介

旋转喷淋清洗机

巴克单工位旋转喷淋清洗机采用高压水射流的原理，结合工装旋转，采用plc触摸屏控制，自动化程度高，廊坊通过式喷淋清洗机，可实现盖子自动启闭，360°清洗，整个清洗过程全自动完成。产品在设计上，综合考虑实用性、人机工程、美学等各个方面，根据长期的经验积累与总结，形成了一整套标准化的设计思路。